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產(chǎn)品介紹:
OTF-1200X-4-VT-II是通過CE認證的雙溫區(qū)立式管式爐,其爐管直徑可制作為100mm,適合于對樣品在真空或氣氛保護環(huán)境下進行吊燒和淬火。爐體下端安裝有一移動架以方便與移動。采用PID方式進行溫度調(diào)節(jié),可設置30段升降溫程序,控溫精度為+/- 1 ℃.
產(chǎn)品特點:
爐體結(jié)構(gòu)采用雙層殼體結(jié)構(gòu)并帶有風冷系統(tǒng),使得殼體表面溫度小于60℃,爐體設計為開啟式,以方便與更換爐管。采用高純氧化鋁作為爐膛材料,爐膛表面涂有美國進口高溫氧化鋁涂層可以提高加熱效率和爐膛使用壽命,適合于對樣品在真空或氣氛保護環(huán)境下進行吊燒和淬火。并且爐體下端安裝有一移動架以方便與移動。
溫控系統(tǒng):
包含一款YD518P型溫度控制器,PID自動控溫系統(tǒng),智能化30段可編程控制,默認DB9 PC通信連接端口,通過MET認證,可選購電腦溫度控制軟件(用于YD518P系列控制器)用于控制升溫曲線和導出數(shù)據(jù)。
技術參數(shù):
電壓:AC208-240,50Hz
最大功率: 3KW
溫度:長期1100℃ (1200℃<1h)
建議升溫速率:≤10℃/min
熱偶:K型熱偶
控溫精度:±1℃
以下幾種尺寸的高純度石英管可選:
OD:Φ50 mm×L1000mm
OD:Φ60 mm×L1000mm
OD:Φ80 mm×L1000mm
OD:Φ100 mm×L1000mm
加熱區(qū):加熱區(qū)長度:400mm (雙溫區(qū)200+200mm)
加熱元件:摻鉬鐵鉻鋁(表面涂有氧化鋯涂層,可以極大程度延長使用壽命)
外形尺寸:600mm(L)×600mm(W)×2000(H)(包含管子法蘭的整體尺寸)
凈重:約80 kg(不包含移動爐架)
使用注意事項:
爐管內(nèi)氣壓不可高于0.02MPa。
由于氣瓶內(nèi)部氣壓較高,所以向爐管內(nèi)通入氣體時,氣瓶上必須安裝減壓閥,建議在本公 司選購減壓閥,本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時會更加精確安全。
當爐體溫度高于1000℃時,爐管內(nèi)不可處于真空狀態(tài),爐管內(nèi)的氣壓需和大氣壓相當,保持在常壓狀態(tài)。
進入爐管的氣體流量需小于200SCCM,以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊。
質(zhì)保期:一年保修,終身技術支持。
特別提示:1.耗材部分如加熱元件,石英管,樣品坩堝等不包含在內(nèi)。2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內(nèi)。
應用技術提示 |
購買前請聯(lián)系我們,確定進出氣口以及閥門種類 石英管的長時間使用溫度<1100℃ 設備使用過程兩邊添加管堵,保證恒溫區(qū)和法蘭密封性 為了獲得更高的潔凈度和真空度,請選用石英管堵 對于樣品加熱的實驗,不建議關閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥使用。·若需要關閉氣閥對樣品加熱,則需時刻關注壓力表的示數(shù),若氣壓表示數(shù)大于0.02MPa,必須立刻打開泄氣閥,以防意外發(fā)生(如爐 管破裂,法蘭飛出等) 用傳統(tǒng)的方法將懸掛絲剪斷,樣品墜落(圖一、二) 使用電磁閥使樣品墜落(圖三) 可將此立式爐改造為HPCVD(混合物理化學氣相沉積實驗爐)(圖四) 也可用此設備來對樣品進行焊接(圖五)
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警示 |
爐管內(nèi)氣壓不可高于0.02MPa。 由于氣瓶內(nèi)部氣壓較高,所以向爐管內(nèi)通入氣體時,氣瓶上必須安裝減壓閥,建議在本公 司選購減壓閥,本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時會更加精確安全。 當爐體溫度高于1000℃時,爐管內(nèi)不可處于真空狀態(tài),爐管內(nèi)的氣壓需和大氣壓相當,保持在常壓狀態(tài)。 進入爐管的氣體流量需小于200SCCM,以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊。 |
密封法蘭 |
1.上端法蘭上焊有一吊環(huán),以方便用高溫絲將樣品吊在爐管中進行燒結(jié) 2.可選:本公司生產(chǎn)的帶鉸鏈式法蘭 3.多種接頭可選 |
真空系統(tǒng) |
通過機械泵可達到10E-2 Torr. 通過分子泵泵可達到10E-5 Torr.
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供氣系統(tǒng)(可選) |
科晶公司提供各種通道浮子、質(zhì)子流量計可供選擇,以實現(xiàn)氣體流量的精確控制。 單通道浮子單通道質(zhì)子兩通道浮子兩通道質(zhì)子多通道浮子(防腐) |
減壓閥 |
可選用本公司減壓閥,以實現(xiàn)氣體壓力的精確控制。 |
高溫絲 |
可在本公司可以訂購高溫絲(鎳鉻合金),可達溫度1100℃ |
PC控制(選配) |
可選購電腦溫度控制軟件(用于YD518P系列控制器)用于控制升溫曲線和導出數(shù)據(jù) |